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计算光刻和良率分析领域出现一家背景复杂但真实存在的中国新势力——东方晶源。
芯片设计全流程页面判断第 6 条：计算光刻和良率分析领域出现一家背景复杂但真实存在的中国新势力——东方晶源。（页面作者的分析，不是来源里的事实）。
- 所在图谱芯片设计全流程 · 「最近的关键变化」
- 判断原文计算光刻和良率分析领域出现一家背景复杂但真实存在的中国新势力——东方晶源。 其"物理模型+AI"混合建模光刻工具已拿到国内存储厂商的近2亿元战略合同，2026年7月递交科创板IPO招股书；但创始人历史上与ASML起诉XTAL商业机密侵权案(2018-2019年胜诉，赔偿8.45亿美元)存在关联，这段背景在IPO审核中可能被问询，如实列出供参考，不代表侵权认定。
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所在的图谱 · 1
- 计算光刻和良率分析领域出现一家背景复杂但真实存在的中国新势力——东方晶源。属于图谱「芯片设计全流程」
证据 1
文中提到 · 3
- 计算光刻和良率分析领域出现一家背景复杂但真实存在的中国新势力——东方晶源。提到XTAL
- 计算光刻和良率分析领域出现一家背景复杂但真实存在的中国新势力——东方晶源。提到Dongfang Jingyuan（东方晶源）
- 计算光刻和良率分析领域出现一家背景复杂但真实存在的中国新势力——东方晶源。提到ASML